光刻胶新材

光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成成分包括:光引发剂[光增感剂、光致产酸剂]、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩[掩模板]转移到代加工基片[集成电路(PCB、半导体等)、显示面板等]上。

在平板显示领域,光刻胶主要分为彩色/黑色光刻胶、LCD触摸屏光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等;

在PCB领域,光刻胶主要分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、感光阻焊油墨等;

在半导体集成电路领域,光刻胶主要分为g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶等;而按照显示效果,光刻胶又可分为正性光刻胶和负性光刻胶;

按照化学结构,光刻胶又可分为光聚合型、光分解型、光交联型和化学放大型;

按照曝光所需波长不同,光刻胶又可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等;

因此光刻胶方方面面的性能都决定了集成电路相关制造领域的质量。如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,那毫无疑问光刻胶技术就是这部引擎所需的“高级燃料”。

曾经严重依赖有机化学反应的光刻胶单体制备领域,也因为合成生物学的不断发展迎来新的契机。高纯、稳定、性能,合成生物学自带这些曾经需要攻克难关的属性。


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